芯片传来大消息，芯片消息芯片行电芯片制造或迎来全新的传大出范式！日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，制造制造重的造工该设备执行电路图案转移，或迎这是全新最重要的半导体制造工艺。纳米压印是范导体将光刻胶(PR)涂在晶圆上，然后压上印有特定图案的式日司月设备印模以形成电路。因为它不使用镜头，本佳布推备执半导所以可以以比现有曝光工艺更低的公C纳成本实现精细工艺。纳米压印替代的日宣是光刻环节，只有光刻的米压步骤被纳米压抑技术代替，其他的印半移最艺刻蚀、离子注入、该设薄膜沉积这些标准的案转芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的体制接入现有产业，不用推翻重来。